高純氨是電子工業中氮化膜的成膜氣體,已經在半導體,液晶面板,氮化鎵系LED生產中得到廣泛應用;在多晶硅太陽能電池領域的高純氨的應用也在不斷增加。針對NH3中的水份脫除工藝研究，對于氣態氨在脫水過程中出現的各種復雜問題解決，確保設備長期穩定運行，純氨含水量小于1PPm以下。 
關鍵詞：高純氨；脫水；問題解決; 穩定運行; 
氨氣在常溫常壓下為具有特殊刺激性惡臭的無色有毒氣體，比空氣輕。氨在常溫下穩定，但是在高溫分解成氫和氮。一般在一個大氣壓下450~500℃時容易分解成氫氮混合氣。在空氣中可燃，但一般難以著火，如果連續接觸火源就燃燒，有時也能引起爆炸。氨呈堿性，具有強腐蝕性。氨氣用途廣泛包括氮肥、銨鹽硝酸、尿素丙烯酰胺、氫氰酸、無機試劑、藥品、染料、金屬表面氮化、制冷劑、半導體用氣體、氧化、氮化膜、化學氣相淀積、標準氣等。 
目前工業制取液氨的方式主要是利用氫和氮在高溫高壓時在催化劑的作用下合成得到的。其粗氣中的組成雜質主要含有微量硫、水份、一氧化碳、氮氣、氧氣、鐵雜質及其它機械雜質和油等雜質。液氨中含有硫可通過脫硫裝置脫除，含有的油份可通過活性碳吸附，含有的機械雜質可通過精密過濾裝置過濾，氨中含有的雜質氣體可以通過萃取精餾工藝解決。氨中的水份在氨氣的雜質中占有的比重較大，在實際應用解決過程中遇到的問題也較多，特別是氨氣最終的脫水深度及脫水過程中產品氣露點穩定性是整個工藝脫水過程中克服的難點。隨著電子工業的發展，對NH3純度要求及雜質含量要求極高。鑒于高純氨氣良好的應用前景，進一步開展NH3純度的技術研究，提高產品氣的純度是十分必要的。